Tipo | Placa clara de quartzo |
---|---|
Inscrição | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100mm |
Forma | Quadrado |
Processando o serviço | Perfuração, corte, lustrando |
Tipo | Placa de quartzo congelado |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Passo |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Material | SIO2>99.99% |
---|---|
Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Temperatura de trabalho | 1110℃ |